英特尔谈 Intel 14A 可能使用 High NA EUV：两种光刻技术设计规则兼容

搜索最新SoC解决方案
关于汽车电子...物联网...安全...音频...视频

4 月 30 日消息，英特尔并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect（英特尔代工大会）上明确其 Intel 14A 先进节点是否会引入 High NA EUV 光刻技术，不过代工部门高管纳加・钱德拉塞卡兰还是就相关议题发表了看法。

www.eeworld.com.cn, Apr. 30, 2025 –

他表示，英特尔仍有在 14A 制程的 EUV 光刻步骤中仅使用传统 Low NA 或部分导入 High NA 的选项。而这两种方案在设计规则上是兼容的，这意味着无论英特尔选择哪条技术路径，都不会对客户造成影响。

英特尔已在其俄勒冈州研发晶圆厂安装了第二套 ASML 提供的 High NA EUV 光刻系统，表现符合预期。英特尔的 High NA EUV 图案化技术开发正稳步向量产迈进，同时已掌握了 High NA EUV 在 18A、14A 级节点的数据。