www.design-reuse-china.com
搜索,选择,比较,与提供商进行安全高效的联系
Design & Reuse We Chat
D&R中国官方微信公众号,
关注获取最新IP SOC业界资讯

【报名倒计时】Andes晶心与思尔芯强强连手,RISC-V NOW! 北京、上海场亮点抢先看!

mp.weixin.qq.com – Apr. 23, 2026 –

1. Andes晶心科技年度盛会RISC-V NOW! by Andes即将于北京 (5/12) 与上海 (5/14)登场!活动特别邀请生态伙伴思尔芯 (S2C)与会,是这次的亮点之一。思尔芯 (S2C)将带来重磅Demo于现场展示,同时也会针对RISC-V进行深度演讲,为大家剖析RISC-V创新与落地的密码,不论对RSIC-V熟悉与否,都能于本次研讨会活得最新信息!

精彩演讲预告:打破RISC-V开发的 "隐形墙"

演讲题目:聚合生态势能,思尔芯数位EDA赋能RISC-V创新落地

在RISC-V快速发展的今天,如何让架构决策更精准?如何让软件团队在拿到芯片前就开始开发?思尔芯将在演讲中分享:

2. Demo现场直击:Andes IP + S2C 验证,硬核实力看得见

点击阅读更多

 Back

业务合作

添加产品

供应商免费录入产品信息

点击此处了解更多关于D&R的隐私政策

© 2026 Design And Reuse

版权所有

本网站的任何部分未经Design&Reuse许可,
不得复制,重发, 转载或以其他方式使用。