|
|
www.design-reuse-china.com |
Intel 5nm工艺曝光:直逼IBM 2nm
news.eeworld.com.cn, Jul. 14, 2021 –
作为半导体工业中的核心,芯片制造是最关键也是最难的,进入10nm节点之后全球现在也就是台积电、Intel、三星三家公司选择继续玩下去。表面来看Intel的进度是最慢的,然而其他两家的工艺"水分"也不小,三星的3nm工艺密度才跟Intel的7nm差不多。
Digitimes日前发表了研究报告,分析了三星、台积电、Intel及IBM四家的半导体工艺密度问题,对比了10nm、7nm、5nm、3nm及2nm的情况。
在10nm节点,三星的晶体管密度只有0.52亿/mm2,台积电是0.53亿/mm2,Intel已经达到了1.06亿/mm2,密度高出一倍左右。
7nm节点,三星的工艺密度是0.95亿/mm2,台积电是0.97亿/mm2,Intel的7nm则是1.8亿/mm2,依然高出80%以上。
再往后的5nm节点上,三星实现了1.27亿/mm2的密度,台积电达到了1.73亿/mm2,Intel的目标是3亿/mm2,三星与其他两家的差距愈发拉大。